阿斯麦与SK海力士拟合作开发EUV光刻机氢气回收技术

特气网韩国产业通商资源部1213日表示,总部位于荷兰的阿斯麦公司(ASML)计划扩大与韩国芯片制造商的业务合作。除ASML计划与三星电子共同投资1万亿韩元(约合7.04亿欧元)在韩国建芯片研究中心外,ASML还与韩国第二大芯片制造商SK海力士签署谅解备忘录,以开发回收极紫外(EUV)光刻机中使用的氢气的技术,以降低极紫外线光刻机能耗。

韩国总统尹锡悦1211日前往荷兰,开启其为期四天的访问。

文章来源:互联网

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